光刻膠是由感光樹脂、光引發劑、溶劑三種主要成分和其他助劑組成的對光敏感的混合液體,是通過紫外光、深紫外光、電子束、離子束、X 射線等光照射或輻射,其溶解度發生變化的耐蝕刻材料。感光樹脂構成光刻膠的基本骨架,主要決定曝光后光刻膠的基本性能,包括硬度、柔韌性、附著力、曝光前和曝光后對特定溶劑的溶解度;光引發劑對光刻膠的感光度、分辨率等起決定性作用;溶劑用于溶解光刻膠各組成成分,也是后續光刻膠化學反應的介質。
助劑是指根據不同用途添加的顏料、固化劑、分散劑等調節性能的添加劑。
光刻膠種類繁多,根據其化學反應機理和顯影原理,可分為正性光刻膠和負性光刻膠兩類。對顯影液不可溶,經光照后變成可溶物質的即為正性光刻膠;反之,光照后形成不可溶物質的是負性光刻膠,具體如下圖所示:
根據應用領域,光刻膠可分為集成電路光刻膠(可細分為晶圓制造、先進封裝)、顯示面板光刻膠和PCB 光刻膠,其技術壁壘依次降低。PCB 光刻膠是目前國產替代進度最快的產品;顯示面板中LCD 光刻膠替代進度相對較快,OLED 光刻膠仍由國外企業壟斷;集成電路光刻膠目前國產技術較國外先進技術差距較大。
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